V型石墨舟皿與U型石墨舟皿在結(jié)構(gòu)規(guī)劃、工藝適配性及功用體現(xiàn)上存在明顯差異，具體分析如下：
一、結(jié)構(gòu)規(guī)劃差異
卡槽深度與幾何形狀
    V型石墨舟皿：卡槽呈V型，深度較淺，一般為U型卡槽深度的約60%（即U型卡槽深度是V型的1.7倍）。這種規(guī)劃削減了材料在高溫下的暴露面積，下降了燒焦危險(xiǎn)。
    U型石墨舟皿：卡槽呈U型，深度較大，適宜承載較厚或圓柱形產(chǎn)品，但槽內(nèi)氣體活動(dòng)途徑較長(zhǎng)，易導(dǎo)致部分積碳。
支撐與限位機(jī)制
    V型石墨舟皿：經(jīng)過斜面限位完畢產(chǎn)品軸心精準(zhǔn)定位，軸心差錯(cuò)≤0.01mm，適用于硬質(zhì)合金段差圓棒/管等對(duì)同心度要求高的場(chǎng)景。
    U型石墨舟皿：依托槽底平面支撐，對(duì)異形件適配性較差，易因產(chǎn)品滑動(dòng)導(dǎo)致軸心偏移。
排氣與氣體流轉(zhuǎn)
    V型石墨舟皿：槽面設(shè)有排氣通槽，引導(dǎo)脫膠氣體沿預(yù)定途徑逸出，消除部分氣壓過高導(dǎo)致的膠體殘留。例如，在硬質(zhì)合金長(zhǎng)條薄片燒結(jié)中，排氣通槽使溫差不堅(jiān)決≤3℃，翹曲變形率降至0.5%以下。
    U型石墨舟皿：槽底一般為關(guān)閉規(guī)劃，氣體流轉(zhuǎn)依托槽口天然松懈，易導(dǎo)致氣體停留區(qū)，添加燒焦危險(xiǎn)。
二、工藝適配性比照
燒結(jié)工藝
V型石墨舟皿：
    硬質(zhì)合金燒結(jié)：經(jīng)過V型槽限位和氮化硼涂料層（厚度≥0.18mm），阻斷碳滲透，防止硬質(zhì)合金滲碳導(dǎo)致的硬度下降（滲碳層硬度下降約15%-20%）。
    異形件處理：經(jīng)過替換不同規(guī)范石墨片，可燒結(jié)最小截面5mm×5mm的異形件，無(wú)需替換舟皿本體，下降加工本錢40%。
U型石墨舟皿：
    圓柱形產(chǎn)品燒結(jié)：適宜承載直徑均勻的圓柱形產(chǎn)品，如釹鐵硼磁體，但需額定規(guī)劃防滑結(jié)構(gòu)以防止產(chǎn)品移動(dòng)。
    厚件燒結(jié)：深槽結(jié)構(gòu)可承載厚度較大的產(chǎn)品，但需延伸脫膠時(shí)間以防止氣體停留。
鍍膜工藝
    V型石墨舟皿：在太陽(yáng)能電池片PECVD工藝中，V型槽使表面溫差<±2℃，碎片率從0.5%降至0.02%，單線日產(chǎn)能打破7000片。
    U型石墨舟皿：槽內(nèi)氣體活動(dòng)不均易導(dǎo)致鍍膜厚度不堅(jiān)決，需經(jīng)過優(yōu)化槽底開孔規(guī)劃改善，但會(huì)添加工藝復(fù)雜度。
三、功用體現(xiàn)與本錢效益
燒焦與積碳操控
    V型石墨舟皿：卡槽深度淺且氣體流轉(zhuǎn)途徑短，燒焦危險(xiǎn)明顯低于U型。例如，在氫氣脫膠工藝中，V型槽規(guī)劃可使膠體殘留率從15%降至2%以下。
    U型石墨舟皿：深槽結(jié)構(gòu)易構(gòu)成氣體停留區(qū)，需經(jīng)過添加槽底開孔或優(yōu)化氣體流速操控?zé)梗珪?huì)添加設(shè)備本錢。
使用壽命與保護(hù)本錢
    V型石墨舟皿：棱角保護(hù)槽將產(chǎn)品與銳邊觸摸轉(zhuǎn)為平面觸摸，邊角破損率從5.2%降至0.8%，舟皿破損率下降40%，使用壽命延伸30%以上。
    U型石墨舟皿：槽底易因氣體沖刷或產(chǎn)品滑動(dòng)導(dǎo)致磨損，需守時(shí)修正或替換，保護(hù)本錢較高。
空間利用率與裝載量
    V型石墨舟皿：底面Λ形通槽規(guī)劃使疊放時(shí)上層舟皿的支撐凸起落入下層通槽內(nèi)，削減筆直方向空間占用，裝載量提高25%以上，一起下降石墨材料耗費(fèi)約15%-20%。
    U型石墨舟皿：疊放時(shí)需預(yù)留較大空位以防止干與，空間利用率較低。